Université des sciences appliquées de Cobourg révolutionne la nanotechnologie avec un nouveau processus

Université des sciences appliquées de Cobourg révolutionne la nanotechnologie avec un nouveau processus

Innovations en nanotechnologie à l'ISAT de l'Université des sciences appliquées de Cobourg

L'Université des sciences appliquées de Cobourg a fait des progrès significatifs en nanotechnologie. À l'Institut de Sensor et Aktor Technology (ISAT), une nouvelle méthode de production de nanostructures en plastique a été développée avec succès qui pourrait avoir des applications de grande envergure dans différents domaines. Cela ouvre des perspectives intéressantes pour le développement futur de capteurs très sensibles.

L'importance des nanostructures en plastique

Les nanostructures de Plasmonische

sont des entités basées sur les particules qui ont des propriétés optiques spéciales. Ces particules interagissent de manière unique avec la lumière et peuvent ainsi être utilisées sur mesure pour diverses applications dans la technologie des capteurs et dans la recherche optoélectronique. Leur capacité à regrouper la lumière dans un espace minimal pourrait révolutionner la technologie des capteurs, en particulier dans des domaines tels que la médecine, la surveillance environnementale et les applications liées à la sécurité.

Succès grâce à la coopération internationale

La percée sur Isat est le résultat du semestre pratique de Yuzhong Shi, un étudiant chinois de l'Université des sciences appliquées de Cobourg. Au cours de ses études dans le baccalauréat dans les technologies futures, il a largement travaillé sur le développement de ces nanostructures innovantes. Son semestre pratique n'était pas seulement une cérémonie d'apprentissage pour la science, mais aussi un échange culturel qui a élargi son horizon. "Les différences de culture sont fascinantes. J'ai également la liberté et les opportunités d'expérimenter dans les laboratoires et de faire de véritables recherches nanof", explique-t-il avec enthousiasme.

La technologie derrière les nanostructures

La lithographie du masque d'ombre est cruciale pour la production des nanostructures générées. Avec cette technique, un masque avec des ouvertures spéciales est placé sur un substrat, qui est ensuite recouvert d'un matériau de pulvérisation. Les particules de pulvérisation n'atteignent le substrat que par les ouvertures et créent ainsi un motif précis. Après l'application, le masque est supprimé de sorte que le modèle final reste visible. Dans ce cas spécial, un motif en forme d'étoile de structures en argent triangulaire a été créée avec succès.

Outlook pour l'avenir

Le développement qui a eu lieu à Isat à Coburg est conforme à la tendance mondiale de la nanotechnologie et à son importance croissante dans la recherche. Les possibilités offertes par les nouvelles structures plasonales pourraient avoir des implications de grande envergure pour l'ensemble des capteurs et au-delà. L'Université des sciences appliquées de Cobourg continue de confirmer son engagement à soutenir les jeunes chercheurs talentueux dans leur quête de l'innovation et des progrès techniques.

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